光掩膜

何为掩膜

• 光掩膜是一种通过PET、玻璃基板，在制造电子零件（半导体）、印刷电路板、MEMS等时使用的制图母版。
• 它是一种使用所谓的光刻技术，实现电子部件、印刷线路板的线路图等的复制的母版。
• 光掩膜被广泛应用于PWB、FPC等印刷电路板、封装电路板、液晶和触摸屏等的显示屏、半导体相关电子零件等领域。

光掩膜的制造特点

高精度光掩膜产品的质量保证

我公司采用全间距测量设备对光掩膜产品进行全间距测量和检测。我们以高精度提高光掩膜的质量，保证质量，提供稳定的高质量产品。

交货期短的生产体制

我们采用24小时制的生产体制，在尽可能短的期限内交货。

薄膜掩膜

光掩膜中高性价比的基础光掩膜。此外，因为材质是聚酯基材，又轻又软，非常容易安装。

主要用途

PWB、FPC、电子零件、画报等

特征

• 性价比最高的光掩膜
• 因为材质是聚酯基材，又轻又软，非常容易安装。
• 数据编辑时的精细处理也没有问题。
• 还可处理30μm左右的精细图案。

支持数据

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2 /ODB++
※另备有高保密度的收发方法，请联系我们。

选项

支持贴层压薄膜

标准、规格

基体材料	聚酯
对应尺寸	～711x813mm
材料厚度	175μｍ
膜质	银盐明胶乳液
膜厚	7～8μｍ

最小线	30μｍ
短尺寸精度	±3.0μｍ～
长尺寸精度	±20.0μｍ～

※也支持其他尺寸，请咨询。

乳胶玻璃掩膜

与光掩膜中使用高感光率感光乳剂，采用玻璃基膜的光绘聚酯底片相比，它的尺寸安全性更高。

主要用途

LCD、OLED、电力零件、画报等

特征

• 与采用玻璃基膜的光绘聚酯底片相比，其尺寸安全性更高。
• 因为银粒子细小，干涉较少，所以感光率高。
• 数据编辑时的精细处理也没有问题。
• 使用高感光率感光乳剂，支持20μm的薄膜图案。
  ※一定条件下也支持20μm以下的图案。请向我们咨询。

支持数据

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另备有高保密度的收发方法，请联系我们。

选项

与硬涂层兼容

标准、规格

基体材料	碱石灰
对应尺寸	～711x813mm
材料厚度	1.8mm～5.0mm
膜质	银盐明胶乳液
膜厚	5～6μｍ

最小线	10μm～
短尺寸精度	±1.0μｍ～
长尺寸精度	±3.0μｍ～

※也支持其他尺寸，请咨询。

铬玻璃掩膜

满足高精度、高精细度等所有条件的高规格光掩膜。采用合成石英材料，曝光过程中温度发生变化，尺寸也能稳定不变。最小可支持2μm图案宽度的高精细度光掩膜。

主要用途

MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜芯片组件等

特征

• 因为无边缘，所以适合超高精细度的制图。
• 采用合成石英材料，曝光过程中温度发生变化，尺寸也能稳定不变。
• 遮光膜很薄，因此复制性能优良。
• 最小可支持2μm图案宽度。

支持数据

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另备有高保密度的收发方法，请联系我们。

选项

与薄膜防水和防油涂层以及硬涂层兼容。

标准、规格

基体材料	碱石灰/人工石英
对应尺寸	～700x800mm
材料厚度	1.0mm～5.0mm
膜质	低反射双层铬/ 单层铬/三层铬
膜厚	100～125nm

最小线	2μｍ～
短尺寸精度	±0.2μｍ～
长尺寸精度	±0.5μｍ～

※也支持其他尺寸，请咨询。