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光掩膜技术信息
带光罩护膜的铬版玻璃掩模
Pellicle是一种带有防尘保护罩的面罩,可以保护面罩不受用于投影曝光的铬制面罩的异物影响。
特征
垃圾失焦,垃圾不会成像,可防止图案的缺损。
防静电铬版玻璃掩模
通过使用特殊材料,防止静电对铬金属的损坏。
特征
通过降低静电破坏,提高成品率。
精度校准板
矫正用板,是一种用于各类装置日常检查和精度矫正的产品。
图案的形状方面,点状、丝网状、线性图表等较常见,但也可设计成任意形状。
该产品主要用于驱动装置的位置精度确认和光学装置的分辨率确认,有很多FA领域的顾客购买过。
光刻母版
光刻胶母版,是一种使用光刻胶形成立体结构的产品。在树脂模具和电铸模具方面有业绩。
使用光掩膜制造技术,可进行高精细度的光刻胶。可进行大批量生产,请与我们联系。
涂料
依靠特殊涂层提高铬表面的脱模性。
项目 | 规格 | 备注 | ||||
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膜质 | 高粘附性氟涂层剂 | |||||
膜厚 | 10~20nm | |||||
膜硬度 | 铅笔硬度5H以上(JIS5600K) | JIS5600K 铅笔硬度计 | ||||
防水性 | 接触角 100°以上 | |||||
透射率 | 在365nm波长下99%以上(与基板的相对比较) | 分光光度计 | ||||
耐溶剂性 | 溶剂 | IPA | MEK | 丙酮 | 乙醇 | 500g/cm³ 摩擦试验 |
防水性 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | 光点测试1小时 | |
耐药品性 | 耐碱:5%KOH水溶液 | 耐酸:H2SO4(浓度96%) | 光点测试1小时 | |||
无变化 | 无变化 | |||||
对应尺寸 | 3×3~(单位:inch) |