光掩膜技术信息 | 竹田东京工艺制版服务株式会社
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光掩膜技术信息

带光罩护膜的铬版玻璃掩模

Pellicle是一种带有防尘保护罩的面罩,可以保护面罩不受用于投影曝光的铬制面罩的异物影响。

特征

垃圾失焦,垃圾不会成像,可防止图案的缺损。

带光罩护膜的铬版玻璃掩模

防静电铬版玻璃掩模

通过使用特殊材料,防止静电对铬金属的损坏。

特征

通过降低静电破坏,提高成品率。

防静电铬版玻璃掩模

精度校准板

矫正用板,是一种用于各类装置日常检查和精度矫正的产品。
图案的形状方面,点状、丝网状、线性图表等较常见,但也可设计成任意形状。
该产品主要用于驱动装置的位置精度确认和光学装置的分辨率确认,有很多FA领域的顾客购买过。

精度校准板

光刻母版

光刻胶母版,是一种使用光刻胶形成立体结构的产品。在树脂模具和电铸模具方面有业绩。
使用光掩膜制造技术,可进行高精细度的光刻胶。可进行大批量生产,请与我们联系。

光刻母版
 

涂料

依靠特殊涂层提高铬表面的脱模性。

项目 规格 备注
膜质 高粘附性氟涂层剂
膜厚 10~20nm
膜硬度 铅笔硬度5H以上(JIS5600K) JIS5600K 铅笔硬度计
防水性 接触角 100°以上
透射率 在365nm波长下99%以上(与基板的相对比较) 分光光度计
耐溶剂性 溶剂 IPA MEK 丙酮 乙醇 500g/cm³ 摩擦试验
防水性 光点测试1小时
耐药品性 耐碱:5%KOH水溶液 耐酸:H2SO4(浓度96%) 光点测试1小时
无变化 无变化
对应尺寸 3×3~(单位:inch)

涂层比较

无涂层
无涂层
带涂层
带涂层


可从1张起承接各种掩膜制造

用于试制,希望从1张起承接。本公司灵活应对,承接小批量订单等。请先咨询。



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