photomask

フォトマスク

製品カタログダウンロード（無料）見積もり・相談する（無料）

フィルムマスク
エマルジョンガラスマスク
クロムガラスマスク

竹田東京プロセスサービスのフォトマスクが選ばれる理由

3種類

幅広い精度レンジに対応

フィルム（30μm）・エマルジョンガラス（10μm）・クロムガラス（2μm）の3製品を揃え、試作から高精度量産まで一社で対応。用途に合わせた最適な選択が可能です。

24H稼働

最短当日納品の生産体制

クロムマスク製造は24時間稼働体制を整備。急な試作依頼や納期短縮にも柔軟に対応し、開発スケジュールを止めません。※仕様・数量により異なります

1枚〜

1枚からの試作・小ロット対応

試作1枚から量産まで一貫対応。CAD設計代行・機密性の高いデータ送受信にも対応しており、開発初期段階からサポートします。

用途・課題別選定ガイド

← 左右にスクロールできます

	フィルムマスク	エマルジョンガラスマスク	クロムガラスマスク
こんな方に	まず試作したいコストを抑えたい	中〜高精度が必要 LCD・有機EL用途	最高精度が必要温度管理が厳しい環境
主な用途	PWB・FPC グラフィック	LCD・OLED 電子部品・パッケージ	MEMS・半導体 WLP・薄膜チップ部品
コスト感	◎ 最もリーズナブル	○	△ ハイスペック仕様
最小ライン幅	30μm	10μm	2μm
寸法安定性（温度・湿度）	△ 温度・湿度の影響あり	○ ガラス基材で安定	◎ 合成石英で極小膨張
パターンエッジ（フリンジ）	△ フリンジあり	○ フリンジ少	◎ フリンジなし

どのマスクが最適か相談する（無料）

フォトマスクとは

フォトマスクとは、PETあるいはガラス基材により、電子部品（半導体）やプリント基板、MEMSなどの製造工程で使用されるパターンニングの原版になるものです。
フォトリソグラフィという転写技術を使って、電子部品やプリント基板の回路パターンなどを転写するための原版となるものです。
フォトマスクは、PWB・FPCなどのプリント基板やICパッケージ基板、液晶・タッチパネルなどの表示デバイス、半導体関係の電子部品など幅広い分野で使用されています。

フォトマスク製造の特長

高精度フォトマスク製品の品質保証

当社ではフォトマスク製品のトータルピッチ測定検査にトータルピッチ測定装置を使用。高精度なフォトマスクの品質向上と品質保証と安定品質製品を提供するメーカーです。

短納期納品を可能にする生産体制

クロムマスク製造においては、２４時間稼働の生産体制をご用意しており、可能な限り短納期での納品が可能です。

フィルムマスク

フォトマスクの中で、コストパフォーマンスに優れたベーシックなマスク。また、ポリエステルベースであるため、軽量で柔軟性があるため取り扱いが容易。

主な用途

PWB、FPC、電子部品、グラフィックなど

特徴

最もコストパフォーマンスに優れたフォトマスクです
ポリエステルベースのため、軽量で柔軟性があり、取り扱いが容易です
データ編集時からの細やかな対応が可能です
30μm程度のファインパターンに対応します

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2 /ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

オプション

ラミネートフィルムの貼り付けに対応

規格・仕様

基材	ポリエステル
対応サイズ	～711×813mm
素材厚み	175μｍ
膜質	銀塩ゼラチン乳剤
膜厚	7～8μｍ

最小ライン	30μｍ
短寸法精度	±3.0μｍ～
長寸法精度	±20.0μｍ～

※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。

エマルジョンガラスマスク

フォトマスクの中で、高解像性エマルジョンを使用し、ガラスベースであるためフィルムマスクにくらべ、寸法安定性が高いのが特徴。

主な用途

LCD、OLED、電子部品、パッケージなど

特徴

ガラスベースのためフィルムマスクにくらべ、寸法安定性が高くなっています
銀粒子が細かいため、フリンジが少なく解像性に優れています
データ編集時からの細やかな対応が可能です
高解像性のエマルジョンで、20μm程度のファインパターンに対応します
※条件によっては20μm以下のパターンも可。お問い合わせください。

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

オプション

ハードコートに対応

規格・仕様

基材	ソーダライム
対応サイズ	～711×813mm
素材厚み	1.8mm～5.0mm
膜質	銀塩ゼラチン乳剤
膜厚	5～6μｍ

最小ライン	10μm～
短寸法精度	±1.0μｍ～
長寸法精度	±3.0μｍ～

※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。

クロムガラスマスク

高精細、高精度、全てを満たしたハイスペックガラスマスク。合成石英材を選択することにより露光中の温度変化に対しても寸法を安定させることが可能。最小パターン幅2μmまで対応可能な高精細なマスク。

主な用途

MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜チップ部品など

特徴

フリンジがないため、超高精細の画像形成に適しています
合成石英材を選択することにより、露光中の温度変化に対しても寸法を安定させることが可能です
遮光膜の膜厚が薄いため、転写性能に優れています
最小パターン幅2μmまで対応可能です

対応データ

Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※機密性の高い送受信方法もご用意しておりますので、ご相談ください。

オプション

薄膜撥水撥油コート、ハードコートに対応

規格・仕様

基材	ソーダライム/人工石英
対応サイズ	～700×800mm
素材厚み	1.0mm～5.0mm
膜質	低反射2層クロム/ 単層クロム/3層クロム
膜厚	100～125nm

最小ライン	2μｍ～
短寸法精度	±0.2μｍ～
長寸法精度	±0.5μｍ～

※対応サイズに関しては上記以外にもございますので、お問い合わせください。

基材比較表

基材/製造規格

		フィルムマスク	エマルジョンガラスマスク	クロムガラスマスク
基材規格	基材	ポリエステル	ソーダライム	ソーダライム/人工石英
	基材厚み	175μm	1.8～5.0mm	1.0～5.0mm
	膜質	銀塩ゼラチン乳剤	銀塩ゼラチン乳剤	低反射2層クロム/単層クロム/3層クロム
	膜厚	7～8μm	5～6μｍ	100～125nm
	対応サイズ	～711×813mm	～711×813mm	～700×800mm
	描画エリア	～690×800mm	～680×780mm	～700×800mm
製造規格	最小ライン	30μm	10μm	2μｍ
	短寸法精度	±3μｍ～	±1μm～	±0.2μm～
	長寸法精度	±20μｍ～	±3μm～	±0.5μm～

画質比較（30μｍ）

	フィルムマスク	エマルジョンガラスマスク	クロムガラスマスク
画像

各基材の伸縮率

		ポリエステル	ソーダライム	合成石英
温度	伸縮率	0.001%	0.00085％	0.00006％
温度	1メートル換算	10.0μm/℃	8.5μm/℃	0.6μm/℃
湿度	伸縮率	0.0015％	なし	なし
湿度	1メートル換算	15.0μm/％	なし	なし

フォトマスク

竹田東京プロセスサービスのフォトマスクが選ばれる理由

用途・課題別選定ガイド

フォトマスクとは